關(guān)鍵詞：蝕刻液

行業(yè)：半導(dǎo)體

MT-V6自動(dòng)電位滴定儀電位滴定測(cè)定混酸含量——硝酸氫氟酸

摘要

在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，刻蝕技術(shù)是實(shí)現(xiàn)微電子器件精細(xì)加工的關(guān)鍵步驟之一。半導(dǎo)體濕法刻蝕工藝，簡(jiǎn)稱濕法刻蝕，是一種通過化學(xué)溶液來去除晶圓表面特定材料層的技術(shù)。這種工藝?yán)没瘜W(xué)反應(yīng)來精確地控制材料的形狀和尺寸，以滿足半導(dǎo)體器件的制造要求。本文主要介紹通過MT-V6自動(dòng)電位滴定儀來測(cè)試硝酸/氫氟酸蝕刻液體系的含量。

儀器配置

●MT-V6電位滴定儀

●pH102電極（or銻電極）

●20mL高精度計(jì)量管

●100mL滴定杯

試劑配置

●滴定劑：氫氧化鈉標(biāo)準(zhǔn)溶液

●滴定度：0.5111mol/L

測(cè)定方法

●酸堿滴定/電位滴定

●稱取適量試樣于燒杯中，加50mL溶劑溶解，攪拌均勻，插入電極，選用蝕刻液測(cè)試方法，用氫氧化鈉標(biāo)準(zhǔn)溶液滴定到終點(diǎn)

儀器參數(shù)

●最小滴定體積：10μL

●最大滴定體積：100μL

●攪拌速度：200

●每滴間隔：1500ms

●終點(diǎn)模式：微分判定

●微分設(shè)置：200

測(cè)試數(shù)據(jù)

●環(huán)境溫度：20℃

●環(huán)境濕度：46%

●測(cè)試時(shí)間：2min

測(cè)試結(jié)果：經(jīng)測(cè)試，蝕刻液的硝酸濃度約為20.72%，氫氟酸濃度約為5.17%。